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作者姓名(中文):呂佳勳
作者姓名(英文):Jia-syun Lyu
論文名稱(中文):半導體微影製程奈米轉印之專利技術發展路徑之研究
論文名稱(外文):A Study of Patent Technical Roadmap on Nanoimprint Lithography
指導教授姓名(中文):劉國讚
指導教授姓名(英文):Kuo-Tsan Liu
口試委員姓名(中文):鄭正元
郭開誠
口試委員姓名(英文):Jeng-Ywan Jeng
none
學位類別:碩士
校院名稱:國立臺灣科技大學
系所名稱:專利研究所
學號:M10224013
出版年(民國):104
畢業學年度:103
學期:2
語文別:中文
論文頁數:94
中文關鍵詞:奈米轉印步進光感成形式半導體圖案化專利分析與佈局功效矩陣技術路徑魚骨圖
外文關鍵詞:Nanoimprint LithographyStep and Flash Imprint LithographySemiconductor patterningPatent Analysis and PortfoliosTechnical/Function MatrixTechnical RoadmapFishbone Diagram
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在技術研發初期能有效分析該特定領域的專利,歸納出可能的研發路徑,並且了解到競爭對手的專利佈局策略及技術發展,對於研發計畫的擬定是極為重要的。本文將分析研究專利技術路徑,並以奈米轉印技術為主題進行整體趨勢分析與功效矩陣分類進行技術路徑的判斷,並利用技術路徑分析未來可能的技術發展方向,以提供業界與技術人員可參考或接續研究的依據。

奈米轉印技術是半導體微影技術中的新興技術之一,其優勢在於設備成本低廉且具備高吞吐量,符合半導體產業所需要的特性。本文以奈米轉印技術相關專利為核心,並分為三個部分進行分析:(1)對於奈米轉印技術之專利進行整體趨勢分析,得知專利申請趨勢、競爭公司、併購方式等;(2)分析主流奈米轉印技術發展,以了解技術發展歷程及特定競爭者的研發策略與技術走向;(3)利用技術路徑魚骨圖與研發方向,得知目前技術現況相對於競爭者的差距,並可擬定研發方向透過技術目標找出相關專利案。

本文之分析結果如下:(1)奈米轉印技術之專利申請數量呈現穩定持平的狀態,Canon公司併購了分子壓印公司成為該技術之領導者。且該技術已成功應用於其他技術領域,如硬碟製造或光學薄膜等,發展前景看好。(2)目前市場以步進光感成形式奈米轉印技術為主流,主要著重在轉印方法與機台設備,以減少轉印製程時間為第一目標。(3)利用技術路徑魚骨圖得知目前奈米轉印技術針對大面積轉印與對準精度提升為研發方向。(4)提供完整技術架構圖表以便研究人員閱讀專利資料並尋找有利之研發方向。
Before drafting a research proposal , it is crucial that analyze patents effectively in the particular area and sum up the possible technical roadmap,we should know the patent portfolios strategy and developments of competitors by patent analysis and portfolios strategy.
In this study,we analyze the patent technical roadmap and do the integral trend analyze and judge the technical roadmap by technology function matrix,nanoimprint technology is our topic. Utilize technical roadmap to predict potential technical direction so that it can provide industry and technical staff references and clues.
The advantages of nanoimprint are low equipment cost and high throughput. Nanoimprint has the characteristics what semiconductor industry needs, and it is one of the emerging technologies in the semiconductor lithography techniques.
In this paper, regard nanoimprint related patents as core, and the analysis is divided into three parts: (1) Macroscopic analysis of nanoimprint patents,including patent application trends, competitive companies, mergers and so on; (2) Analyze the development of nanoimprint and realize the history about development and specific competitor strategy and technology direction; (3) Use technical roadmap fishbone diagram and research direction to know the gaps between current status of technology and competitors. Draw up research direction to find related patent through technical objectives.
According to the result, we found : (1)The applicant numbers of nanoimprint patents show steady state. Canon Company acquired Molecular Imprint Company and it became the leader in this technology. Moreover, the technology has been successfully applied to other technical fields, such as hard drive manufacturing or an optical film ; (2) The mainstream of current market is Step and Flash Imprint Lithography (SFIL), which is mainly focused on the imprint method and machine equipment. In addition, reduce the time of imprinting process is the first goal; (3)Use technical roadmap fishbone diagram to know the key of the current nanoimprint are large area imprint and enhancement of precision. (4) Provide a complete technical framework for researchers to read patent information. It will be helpful to find a potential development direction.
摘要 I
AbstractII
誌謝 III
目錄 IV
圖表索引 VII
第一章 緒論 1
1.1 前言 1
1.1.1研究背景與目的 1
1.1.2研究動機 2
1.2技術領域簡介 3
1.2.1微影技術簡介 3
1.2.2奈米轉印技術簡介5
1.2.3奈米轉印技術產業應用簡介8
1.3 文獻探討 9
1.3.1專利分析文獻 9
1.3.2微影製程-奈米轉印技術相關文獻11
1.3.3國外專利分析文獻12
1.4 研究方法與架構14
1.4.1研究方法14
1.4.2 研究流程15
1.4.3 研究架構17
第二章 專利整體趨勢分析19
2.1 前言19
2.2 檢索策略與範圍界定19
2.2.1 檢索策略訂定19
2.2.2 專利資料庫之選擇20
2.2.3 關鍵字之選擇21
2.2.4 檢索式之編列23
2.3 整體件數趨勢25
2.3.1 歷年趨勢圖25
2.3.2專利權人國別分析圖26
2.3.3技術生命週期分析-申請權人26
2.4 主要專利權人分析27
2.5 專利整體技術分類29
2.5.1主要奈米轉印技術與特定研發技術之歸類29
2.5.2主要奈米轉印技術整體技術分類歷年申請趨勢32
2.6 總結33
第三章 競爭公司之專利技術功效35
3.1 前言35
3.2四大競爭公司介紹35
3.2.1 ASML公司之概況35
3.2.2 分子壓印(Molecular Imprints)公司之概況36
3.2.3 CANON公司之概況36
3.2.4 Board of Regents, The University of Texas System之概況36
3.2.5 競爭公司其主要奈米轉印技術研發種類37
3.2.6競爭公司奈米轉印技術專利佈局活動分布38
3.3競爭公司功效矩陣分類40
3.4 四大競爭公司主要研發技術之策略分析47
3.4.1 四大競爭公司奈米轉印技術種類比較47
3.4.2競爭公司奈米轉印功效種類比較48
3.5四大競爭公司技術功效分析49
3.5.1分子壓印公司之技術功效分析49
3.5.2 Canon公司之技術功效分析51
3.5.3 ASML公司之技術功效分析53
3.5.4 Texas System公司之技術功效分析55
3.6總結57
第四章 特定公司之技術演進發展與技術路徑分析59
4.1 前言59
4.2 競爭公司奈米轉印技術演進發展60
4.2.1 ASML公司奈米轉印技術演進發展60
4.2.2 分子壓印公司奈米轉印技術演進發展61
4.2.3 Canon公司奈米轉印技術演進發展62
4.2.4 Texas System 公司奈米轉印技術演進發展63
4.3 分子壓印公司奈米轉印技術七大奈米轉印技術子系統演變64
4.3.1 技術總表64
4.3.2 模具製作技術演變65
4.3.3 樹脂材料與塗佈技術演變67
4.3.4 轉印方法技術演變69
4.3.5 加壓方法技術演變72
4.3.6 脫模方法技術演變73
4.3.7 對準方法技術演變74
4.3.8 機台設備技術演變75
4.4 分子壓印公司奈米轉印技術路徑與研發方向分析77
4.4.1奈米轉印技術子系統與技術目標之技術路徑魚骨圖77
4.4.2 研發方向之專利個案魚骨圖79
4.5總結83
第五章 結論與未來研究方向85
5.1 研究成果85
5.1.1 奈米轉印之專利整體趨勢分析85
5.1.2 技術發展趨勢86
5.1.3 技術路徑魚骨圖與研發方向分析87
5.2 未來研究方向88
5.2.1 專利分析與技術趨勢之研究方向88
5.2.2 技術路徑魚骨圖與研發方向之建議方向89
參考文獻91
學位論文91
期刊論文92
網路資訊及專業報導93
學位論文
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期刊論文
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